Spécialisé dans les solutions d’analyse de surface de haute précision, notre partenaire Hiden Analytical propose des spectromètres de masse de premier ordre et des systèmes clés en main pour les applications avancées de science des surfaces. Vous trouverez ici une liste complète de nos produits de spectrométrie de masse pour l’identification de la structure des couches, les études de contamination des surfaces, et bien plus encore.

COMPACT SIMS : mesure la composition de surface des premiers nanomètres ou micromètres

  • Système d’analyse UHV pour profilage de couches minces
  • Gamme de masse : 50, 300, 510 ou 1000 amu
  • Concentration minimale détectable : ppm
  • SIMS – Spectrométrie de masse d’ions secondaires : oui
  • Analyse des ions produits par la surface : oui (ions primaires d’oxygène ou argon)
  • SNMS – Spectrométrie de masse d’ions secondaires : oui
  • Analyse des ions produits par la surface : oui (ions primaires d’oxygène ou argon)
  • Résolution en épaisseur : 3 nm
  • Concentration minimale détectable – SIMS : 1017 atomes cm-3
  • Concentration minimale détectable – SNMS : 1%
  • Chambre UHV multiports : chambre à géométrie fixée facile d’accès
  • Instruments supplémentaires : non

AUTOSIMS : système automatique d'analyse de surface

  • Analyse SIMS entièrement automatisée et sans surveillance
  • Grande platine d’échantillonnage X-Y
  • Canon à ions oxygène pour une analyse sensible
  • Porte-échantillon personnalisable de type cassette
  • Les paramètres peuvent être spécifiés via une feuille de calcul
  • Caractérisation 3D
  • Résolution en profondeur de l’ordre du nanomètre
  • Service modulaire pour un temps de fonctionnement élevé

SIMS/SNMS WORKSTATION : SYSTÈME D'ANALYSE DE SURFACE UHV POUR LE PROFILAGE EN PROFONDEUR DE FILMS MINCES

  • Analyseur SIMS MAXIM Hiden fonctionnant sous MASsoft Professional pour l’analyse des ppb
  • Ioniseur intégré pour une analyse SNMS efficace
  • Choix de sources d’excitation primaire à pompage différentiel
  • Canons à gaz IG20, à césium IG5C, à gallium liquide haute performance ou IFG200 FAB
  • Contrôle intégré de la trame du canon à ions avec déclenchement du signal pour le profilage en profondeur
  • Canon à électrons en option pour la neutralisation des charges dans les études sur les isolants
  • Chauffage d’étuvage de la chambre à vide
  • Transfert rapide de l’échantillon, porte-échantillon et manipulateur avec verrouillage de charge
  • Manipulateur UHV pour un positionnement optimal de l’échantillon
  • Option d’imagerie élémentaire SIMS avec le programme d’imagerie SIMS LabVIEW ESM
  • Bibliothèque spectrale SIMS statique disponible
  • Réglage automatique de la lentille de l’optique ionique SIMS
  • Alignement automatique des masses pour une performance optimale de l’ISSM

TOF-QSIMS WORKSTATION : SYSTÈME SIMS QUADRUPOLAIRE À TEMPS DE VOL INNOVANT

  • Analyse SIMS statique sensible pour une spécificité de monocouche supérieure
  • La gamme de masse élevée détecte les grosses molécules des polymères, des produits pharmaceutiques et de la médecine légale
  • La haute résolution de masse sépare les interférences moléculaires
  • La détection parallèle permet l’analyse a posteriori d’inconnus
  • Imagerie hyperspectrale et profilage en profondeur pour une détermination rapide des distributions spatiales
  • Profilage en profondeur à haute gamme dynamique et à sensibilité d’abondance
  • Instrument SIMS entièrement flexible et à l’épreuve du temps

EQS SIMS : SYSTÈME POUR L'ANALYSE DES IONS SECONDAIRES POSITIFS ET NÉGATIFS D'ÉCHANTILLONS SOLIDES

  • Détecteur de comptage d’ions pulsés à haute sensibilité avec une gamme dynamique de 7 décades
  • Contrôle de la trame pour un profilage et une imagerie en profondeur améliorés, avec déclenchement du signal intégré
  • Analyseur de secteur électrostatique à 45°, balayage de l’énergie par incréments de 0,05 eV / 0,25 eV FWHM
  • Perturbation minimale de la trajectoire des ions et transmission constante des ions à toutes les énergies
  • Quadrupôle à triple filtre, options de masse jusqu’à 5000 amu
  • Jauge de pénétrabilité et verrouillage pour assurer une protection contre les surpressions
  • Option de pompage différentiel pour une utilisation dans des environnements à haute pression
  • Commande MASsoft via RS232, RS485 ou Ethernet LAN
  • Interface facile avec les systèmes existants

MAXIM : SYSTÈME POUR LES APPLICATIONS SIMS ET SNMS STATIQUES ET DYNAMIQUES

  • Options de gamme de masse : 300 amu, 500 amu ou 1000 amu
  • Détecteur de comptage d’ions, détection des ions positifs et négatifs, 107 cps
  • Filtre de masse : filtre triple
  • Diamètre du pôle : 9 mm
  • Cuisson au four : 250°C
  • Filtre d’énergie ionique : acceptation angulaire de 30°
  • Ioniseur : bombardement électronique, filament unique pour SNMS et RGA

IG5C : CANON À IONS CÉSIUM DE 5KEV POUR LES APPLICATIONS D'ANALYSE DE SURFACE UHV

  • Source d’ions stable dans l’air
  • Petite bride de montage pour une installation flexible
  • Installation facile des sources de remplacement auto-alignées
  • Longue durée de vie de la source
  • Pompage différentiel pour maintenir la pression réelle de la chambre UHV
  • Conception de colonne à deux lentilles
  • Remplacement facile de l’ouverture définissant le faisceau

IG20 : SOURCE D'IONS ARGON OU OXYGÈNE DE 5KEV POUR LES APPLICATIONS D'ANALYSE DE SURFACE UHV

  • Faisceau d’ions intense avec une taille de spot de 100 µm et des énergies de 0,5 – 5 keV
  • Densité de courant élevée, jusqu’à 4,5 mA/cm²
  • Source d’ions à impact électronique avec possibilité d’utiliser de l’argon et de l’oxygène
  • Optique de guidage pour la diffusion de lignes et le tramage du faisceau dans le profilage en profondeur
  • Décalage de 3° dans la colonne du canon à ions pour un rejet optimal des neutres
  • Dispositif de suppression du faisceau pour une commutation rapide du faisceau dans les applications de tramage
  • Pompage différentiel de la source pour réduire la charge en gaz de la chambre
  • Ensemble à double filament facilement remplaçable
  • Taux de balayage jusqu’à 64 µs
  • Fonctionnement intégré avec les sondes SIM et EQS pour un contrôle direct de la vitesse de balayage et de la zone

Solutions SIMS sur mesure

  • Les systèmes personnalisés utilisent des composants UHV standards
  • Le logiciel est le même que celui utilisé sur la station de travail SIMS
  • Caractérisation 3D
  • Résolution en profondeur de l’ordre du nanomètre
  • Intégration avec des canons à ions, XPS et autres instruments tiers
  • Conception et modélisation CAO 3D complètes
  • Expérience dans l’intégration de la recherche et de la production

XPS pour SIMS : système multi technique UHV pour la science des surfaces offrant des options XPS, UPS, AES, SAM, ISS et LEIS, installé sur la station SIMS de Hiden

  • Fonctionnement stable à haute tension jusqu’à 7 keV
  • Alimentation électrique précise et stable
  • Détecteur HV 1D DLD à faible bruit
  • Modes de lentille angulaire et de transmission