Les spectromètres de masse de la marque Hiden Analytical permettent d’analyser les gaz et les vapeurs dans des procédés et chambres sous vide.

RGA Series : mesure temps réel de concentration en gaz ou vapeur

  • Système pour l’analyse du contenu d’un récipient ou dérivés d’un process
  • Gamme de masse : 50,100, 200, 300 ou 510 amu
  • Concentration minimale détectable (HALO) : 2 x 10-13 mbar
  • Concentration minimale détectable (3F) : 2 x 10-14 mbar
  • Concentration minimale détectable (3F-PIC) : 2 x 10-15 mbar
  • Source d’ions : gamme de sources par impact d’électrons disponible
  • Contrôle complet de la source d’ions : oui
  • Emission électronique : ajustable par logiciel entre 1 µA et 2 mA
  • Energie électronique : ajustable par logiciel entre 0 V et 150 eV
  • Energie d’ions : ajustable par logiciel entre 0 V et 10 eV
  • Détecteur : détecteur Faraday et multiplicateur d’électrons
  • Bride (HALO) : bride DN-35-CF (2.75″/70 mm)
  • Bride (3F – triple filtre) : bride DN-63-CF (4.5”/114 mm)

Ion Source Options : analyseurs de gaz résiduels configurés pour des applications spécifiques, comme l'analyse de faisceaux moléculaires

  • Une gamme de sources par impact d’électrons qui peut être montée sur l’ensemble des analyseurs de gaz résiduels
  • RGA standards : configuration à symétrie radiale pour les applications générales
  • UHV low profile : optimisé pour les études de TPD UHV
  • Source fermée : entrées de gaz directes avec pompage différentiel pour l’analyseur
  • XBS Cross Beam : mesure et contrôle de la vitesse de dépôt en MBE
  • Cross Beam standard : utilisé quand le faisceau peut être lié aux condensés sur les surfaces de la source
  • Laser Cross Beam : 2 passages libres perpendiculaires pour la photo ionisation par laser
  • Optique électronique de 4 lentilles (avec source d’ions intégrée) : analyse de désorption stimulée par électrons, photons et laser
  • Source d’ions en platine : opération avec des gaz réactifs
  • Source d’ions plaquée or : minimiser l’effet du dégazage de la source en UHV

HMT : mesure de gaz résiduels, contaminations et détection de fuites

  • Double mode RGA pour diagnostic du vide et surveillance de procédé sans pompage différentiel
  • Gamme de masse : 100 amu
  • HMT – mode RGA haute pression : jusqu’à 5 x 10-3 mbar
  • RGA – mode : détection jusqu’à 2 x 10-13 mbar
  • Mode détection de fuites : paramétré pour la recherche d’Hélium en standard
  • Bride : DN-35-CF (70 mm OD)
  • Détecteur (standard) : détecteur Faraday
  • Détecteur (option) : multiplicateur d’électrons

HAL 201 RC : mesure la concentration de gaz et vapeur en temps réel

  • Analyseur de gaz résiduels configuré pour les applications UHV exigeantes
  • Gamme de masse : 200 amu
  • Concentration minimale détectable : 5 x 10-14 mbar
  • Source d’ions : source d’ions plaquée or
  • Contrôle complet de la source d’ions : oui
  • Emission électronique : ajustable par logiciel entre 1 µA et 2 mA
  • Energie électronique : ajustable par logiciel entre 0 V et 150 eV
  • Energie d’ions : ajustable par logiciel entre 0 V et 10 eV
  • Détecteur : détecteur Faraday et multiplicateur d’électrons
  • Bride : DN-35-CF (2.75″/70 mm OD)

HALO 201 MBE : mesure de gaz résiduels, contamination et détection de fuites dans les systèmes MBE

  • Analyseur de gaz résiduels configuré pour l’épitaxie par faisceaux moléculaires
  • Gamme de masse : 200 ou 300 amu
  • Pression partielle minimale détectable : 2 x 10-13 mbar
  • Mode détection de fuites : paramétré pour la recherche d’Hélium en standard
  • Détecteur : détecteur Faraday et multiplicateur d’électrons
  • Filtre quadripolaire conçu pour les MBE : oui
  • Câblage électrique en Molybdène au lieu de cuivre : oui
  • Protection de la source d’ions pour éviter la contamination : oui
  • Extension thermique pour opérer tout en chauffant : oui (option)
  • Bride : DN-35-CF (2.75″/70 mm OD)

XBS : analyse des faisceaux moléculaires et contrôle du dépôt

  • Système pour l’analyse de plusieurs sources dans les applications MBE
  • Gamme de masse : 320 ou 510 amu
  • Cross beam source d’ions : sources X-beam multiples configurées par CAD
  • Angle d’acceptation : +/- 35 degrés de l’axe
  • Détermination du taux de croissance : typiquement < 0.01 Angstrom / s
  • Mode de détection de fuite : paramétré pour la recherche d’Hélium en standard
  • Suivi de la vitesse de dépôt : sorties analogiques – 4, 8 ou 16 canaux
  • Option bras translateur vertical : oui (pour positionnement précis)
  • Protection refroidie par eau (option) : oui (protégé des sources de rayonnement)
  • Détecteur : détecteur Faraday et multiplicateur d’électrons

qRGA : mesure la pureté des carburants de fusion, notamment les isotopes de l'hydrogène, deutérium dans l'hélium par exemple

  • Système pour la recherche sur les Tokamaks
  • Gamme de masse : 200 amu
  • Concentration minimale détectable : niveaux de détection inférieurs au ppm
  • Opération en mode double : RGA conventionnel, TIMS
  • Ionisation contrôlée pour potentiel d’ionisation APSI-MS : oui
  • Opération automatisée : oui
  • Logiciel utilisant des templates : oui
  • Sortie de données quantitatives : oui
  • Bride : DN-35-CF (2.75″/70 mm OD)
  • Détecteur : détecteur Faraday et multiplicateur d’électrons

3F Series / 1000 Series RGA : mesure les pressions partielles de gaz résiduels avec une très haute résolution et une gamme de masse étendue à 1000 uma

  • Système pour procédés scientifiques de haute précision
  • Gamme de masse : 50, 300, 510, ou 1000 amu
  • Concentration minimale détectable : 2 x 10-14 mbar
  • Source d’ions : gamme de sources par impact d’électrons disponible
  • Contrôle complet de la source d’ions : oui
  • Emission électronique : ajustable par logiciel entre 1 µA et 2 mA
  • Energie électronique : ajustable par logiciel entre 0 V et 150 eV
  • Energie d’ions : ajustable par logiciel entre 0 V et 10 eV
  • Détecteur : détecteur Faraday et multiplicateur d’électrons
  • Bride de l’analyseur :
    • Bride – diamètre fixation 6 mm : DN-63-CF (4.5″/114 mm OD)
    • Bride – diamètre fixation 9 mm : DN-100-CF (6″/150 mm OD)
    • Adaptateur système – fixation 6 mm : DN-35-CF (2.75”/70 mm OD)
    • Adaptateur système – fixation 9 mm : DN-63-CF (4.5”/114 mm OD)

3F-PIC / 1000 Series PIC : mesure la pression partielle des espèces en UHV avec compteur d'ions

  • Système pour analyses UHV transitoires rapides
  • Gamme de masse : 50, 300, 510 ou 1000 amu
  • Pression partielle minimale détectable : 5 x 10-15 mbar : 1 x 10-16 mbar
  • Acquisition rapide : > 500 mesures/seconde
  • Source d’ions à ionisation contrôlable : optimisé pour l’étude de désorption
  • Gating du signal : résolution du gating de 100 ns
  • Contrôle complet de la source d’ions : oui
  • Bride :
    • Bride – fixation 6 mm : DN-63-CF (4.5″/114 mm OD)
    • Bride – fixation 9 mm : DN-100-CF (6″/150 mm OD)
    • Adaptateur système – fixation 6 mm : DN-35-CF (2.75”/70 mm OD)
    • Adaptateur système – fixation 9 mm : DN-63-CF (4.5”/114 mm OD)

EPIC / EPIC 1000 Series : mesure les ions, neutres et pressions partielles en UHV/XHV

  • Système pour analyses UHV des neutres, radicaux et ions
  • Gamme de masse : 50, 300, 510, 1000, ou 2500 amu
  • Détecteur de comptage d’ions : positifs et négatifs
  • DMM – multimode dynamique : uniquement appliqué pour ionisation par attachement d’électrons pour l’analyse de gaz électronégatifs
  • Pression partielle minimale détectable : 5 x 10-15 mbar : 1 x 10-16 mbar
  • Vitesse de mesure : jusqu’à 500 mesures par seconde
  • Bride : 
    • Bride – fixation 6 mm : DN-63-CF (4.5″/114 mm OD)
    • Bride – fixation 9 mm : DN-100-CF (6″/150 mm OD)
    • Adaptateur système – fixation 6 mm : DN-35-CF (2.75”/70 mm OD)
    • Adaptateur système – fixation 9 mm : DN-63-CF (4.5”/114 mm OD)

IDP / IDP 1000 Series : mesure les ions et les neutres dans les désorptions générées par photons ou électrons

  • Système pour l’analyse d’ions, de neutres et de radicaux dans les études de désorption UHV
  • Gamme de masse : 50, 300, 510, 1000, ou 2500 amu
  • Détecteur de comptage d’ions : positifs et négatifs
  • Optique ionique intégrale IDP : optimisée pour détection d’ions à basse énergie en études ESD ou PSD
  • DMM – multimode dynamique : uniquement appliqué pour ionisation par attachement d’électrons pour l’analyse de gaz électronégatifs
  • Gating externe du signal : 100 ns de résolution du gating
  • Bride : 
    • Bride – fixation 6 mm : DN-63-CF (4.5″/114 mm OD)
    • Bride – fixation 9 mm : DN-100-CF (6″/150 mm OD)
    • Adaptateur système – fixation 6 mm : DN-35-CF (2.75”/70 mm OD)
    • Adaptateur système – fixation 9 mm : DN-63-CF (4.5”/114 mm OD)